-
为了清洁被污染的固体表面,在X射线光电子能谱分析中,常常利用离子枪发出的离子束对样品表面进行溅射剥离,以清洁表面。利用离子束定量地剥离一定厚度的表面层,然后再用XPS分析表面成分,这样就可以获得元素成分沿深度方向的分布图,这是离子束最重
-
扫描电子显微镜 (SEM) 是一种多功能的工具,在大部分时候,无需什么样品制备,即可提供各种样品的纳米级信息。而在某些情况下,为了获得更好的SEM图像,会推荐或甚至有必要结合喷金仪(离子溅射仪)使用SEM。在这篇博客中,我们将解释喷金仪是
-
1、一般工作距离可调,距离越近,溅射速度越快,但热损伤会增加。 2、离子流的大小通过控制真空压力实现,真空度越低,I越大,溅射速度越快,原子结晶晶粒越粗,电子轰击样品(阳极)产生的热量越高;真空度越高,I 越小,溅射速度越慢,原子
-
故障现象:使用一段时间后,溅射电流变小 解决方法:对靶材有无变色、破裂和油污等现进行检查。前两者对靶材进行更换,后者被油蒸汽污染,通过无水乙醇进行清洁,等到干了以后才能够抽真空。 故障现象:在使用一段时间以后,有着过低的真空
-
直流冷阴极二极管式,靶材处于常温,加负高压1-3kv,阳极接地。当接通高压,阴极发射电子,电子能量增加到1-3kev,轰击低真空中(3-10pA)的气体,使其电离,激发出的电子在电场中被加速,继续轰击气体,产生联级电离,形成等离子
-
防护面料等,也可用于染料制作。这样的涂层织物在医疗卫生、环境保护、电子工业等领域都有重要的应用。 这里简单介绍某实际使用的磁控溅射系统,照片如图7。其为一射频磁控溅射系统,且为多靶溅射系统,设备由磁控溅射台,制冷装置,涡轮分子泵及气体流量控制仪
-
牟宗信等采用非平衡磁控溅射技术在AZ31镁合金基底上制备氮化硅薄膜,试样表现出良好的耐腐蚀性能。 2008年Berg等通过建立模型分析发现,控制参数为反应气体时,将靶材溅射面积控制到一定数值以下,迟滞现象就会消失。 2012年龚秋雨等
-
、离子源、溅射靶、基片台等部分组成. 用于溅射的离子源采用伯东的 KRI 聚焦型射频离子源 380, 其参数如下: 伯东 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380 技术参数:射频离子源型号RFICP 380Discharge 阳极射频
2020-10-19
来源: 伯东企业(上海)有限公司
-
射频离子源某 OEM 厂商为了提高镀膜机镀膜的品质, 其为客户搭建的多靶磁控溅射镀膜机的溅射源采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380, 清洗源采用 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000, 真空腔体搭配的是伯东
2021-02-24
来源: 伯东企业(上海)有限公司
-
氧化铟锡 ITO 薄膜 具有高电导率和可见光透过率、紫外光区强吸收、红外区域高反射等特性, 已经广泛应用于太阳能电池、等离子体液晶显示器以及平板显示器等领域. 某光学薄膜制造商用伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220 辅助磁控溅射
2020-10-21
来源: 伯东企业(上海)有限公司